企业信息

    杭州朗为科技有限公司

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  • 公司认证： 营业执照已认证
  • 企业性质：外资企业
    成立时间：2015
  • 公司地址： 浙江省 杭州 余杭区 良渚街道 良渚村 大陆工业园纳贤街3号
  • 姓名： 张奇龙
  • 认证： 手机未认证 身份证已认证 微信未绑定

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    高性能 考夫曼离子源 刻蚀源

  • 所属行业：表面处理 气相沉积设备
  • 发布日期：2018-07-31
  • 阅读量：1430
  • 价格：面议
  • 产品规格：不限
  • 产品数量：999.00 套
  • 包装说明：不限
  • 发货地址：浙江杭州余杭区良渚街道良渚村  
  • 关键词：考夫曼离子源,刻蚀源

    高性能 考夫曼离子源 刻蚀源详细内容

    我司考夫曼离子源分为两类，一类为辅助型，用于基片的预清洗，辅助沉积等，另一类为刻蚀型，用于基片的刻蚀，可以在较近的距离内达到较好的均匀性。
电源为全自动控制，方便设备集成。
详情请与我司联系，谢谢

    http://langweihz.cn.b2b168.com
    欢迎来到杭州朗为科技有限公司网站， 具体地址是浙江省杭州余杭区大陆工业园纳贤街3号，联系人是张奇龙。 主要经营磁控溅射阴极：圆形阴极，条形阴极，旋转归较 高利用率，高可靠性 离子源：考夫曼离子源，射频离子源，阳极层离子源。 单位注册资金单位注册资金人民币 100 - 250 万元。 我们的宗旨是：“用*的服务，使用户得到优质的效益，用优质的技术，为用户提供优质的产品”，选择我们，选择是您正确的决定！我们主要供应磁控溅射靶,磁控溅射阴极,平面靶,美国ASI磁控阴极,美国KRI离子源等，如果您感兴趣，可以来电咨询订购！